Телефон: 8-800-350-22-65
WhatsApp: 8-800-350-22-65
Telegram: sibac
Прием заявок круглосуточно
График работы офиса: с 9.00 до 18.00 Нск (5.00 - 14.00 Мск)

Статья опубликована в рамках: Научного журнала «Студенческий» № 38(208)

Рубрика журнала: Технические науки

Секция: Нанотехнологии

Скачать книгу(-и): скачать журнал часть 1, скачать журнал часть 2, скачать журнал часть 3, скачать журнал часть 4, скачать журнал часть 5, скачать журнал часть 6, скачать журнал часть 7, скачать журнал часть 8

Библиографическое описание:
Зорина Ю.О. НАНОЛИТОГРАФИЯ. ОСНОВНЫЕ ВИДЫ // Студенческий: электрон. научн. журн. 2022. № 38(208). URL: https://sibac.info/journal/student/208/270687 (дата обращения: 28.03.2024).

НАНОЛИТОГРАФИЯ. ОСНОВНЫЕ ВИДЫ

Зорина Юлия Олеговна

студент, кафедра электротехника и электроника, Донской государственный технический университет,

РФ, г. Ростов-на-Дону

NANOLITHOGRAPHY. MAIN TYPES

 

Yuliya Zorina

student, Department of electrical and electronics engineering, Don State Technical University,

Russia, Rostov-on-Don

 

АННОТАЦИЯ

В данной статье рассмотрены основные виды нанолитографии. Нанолитография является очень активной областью исследований в академических кругах и в промышленности. Нанолитография используется при изготовлении передовых полупроводниковых интегральных схем или наноэлектромеханических систем.

ABSTRACT

This article discusses the main types of nanolithography. Nanolithography is a very active field of research in academia and industry. Nanolithography is used in the manufacture of advanced semiconductor integrated circuits or nanoelectromechanical systems.

 

Ключевые слова: нанолитография; структуры; литография.

Keywords: nanolithography; structures; lithography.

 

Нанолитография – относится к изготовлению структур по меньшей мере одним поперечным размером между размером отдельного атома и приблизительно 100 нм.

Оптическая литография, которая была преобладающим методом создания рисунков с момента наступления эры полупроводников, способна создавать узоры длиной менее 100 нм с использованием очень коротких длин волн. Оптическая литография потребует использования погружения в жидкость и множества технологий улучшения фотошаблона (маски со сдвигом фазы, оптическая коррекция приближения в узле 32 нм.

Рентгеновская литография может быть расширена до оптического разрешения 15 нм за счет использования коротких длин волн 1 нм для освещения. Это реализуется с помощью метода бесконтактной печати. Технология разработана до степени пакетной обработки. Расширение метода основано на рентгеновских лучах ближнего поля в дифракции Френеля: четкая особенность маски «размывается» близостью к пластине, которая находится вблизи «Критического состояния». Это условие определяет зазор между маской и пластиной и зависит как от размера элемента прозрачной маски, так и от длины волны. Метод прост, потому что он не требует линз.

Метод повышения разрешения по высоте тона, который получает все большее признание – это двойное нанесение рисунка. Этот метод увеличивает плотность объектов за счет печати новых объектов между предварительно напечатанными объектами на одном и том же слое. Это гибкий метод, поскольку его можно адаптировать для любой техники экспонирования или нанесения рисунка. Размер элемента уменьшается с помощью нелитографических методов, таких как травление или прокладка боковых стенок.

Наиболее распространенным методом нанолитографии является электронно-лучевая литография с прямой записью, использование пучка электронов для получения рисунка.

Ультрафиолетовая литография – это форма оптической литографии с использованием ультракоротких длин волн (13,5 нм). Это наиболее популярная технология NGL. Литография с использованием заряженных частиц, такая как ионно- или электронно-проекционная литография, также способна создавать шаблоны с очень высоким разрешением. [1]

Сканирующая зондовая литография является многообещающим инструментом для создания рисунков в глубоком нанометровом масштабе. Например, отдельными атомами можно манипулировать с помощью наконечника сканирующего туннельного микроскопа. Нанолитография с погружным пером – первая коммерчески доступная технология SPL, основанная на атомно-силовой микроскопии.

Другим видом нанолитографии является хемомеханическое нанесение рисунка на поверхность с использованием атомно-силового микроскопа. [2]

Наносферная литография использует самосборные монослои сфер (обычно из полистирола) в качестве испарительных масок. Этот метод был использован для изготовления массивов золотых наноточек с точно контролируемыми расстояниями. [3]

Вполне возможно, что методы молекулярной самосборки станут основным подходом к нанолитографии из-за постоянно растущей сложности нисходящих подходов, перечисленных выше. Степень контроля размеров и ориентации, а также предотвращение слияния ламелей все еще нуждаются в решении, чтобы это стало эффективным методом формирования рисунка. Этот метод также подчеркивает важную проблему шероховатости кромки линии.

 

Список литературы:

  1. Волков А.И., Жарский И.М. Большой химический справочник — Мн.: Современная школа, 2005. – 608 с.
  2. Давис Р.К. и др., Хемомеханическое формирование структуры поверхности и функционализация кремниевых поверхностей с использованием атомно-силового микроскопа, приложение. — Физика 82 (5), 2003. — С. 808-810.
  3. Хацор-де Пиччотто А., Висснер-Гросс А. Д., Лавалли Г., Вайс П. С. Массивы Cu (2+) комплексных органических кластеров, выращенных на золотых наноточках. Журнал экспериментальной нанонауки 2, 2007. — С. 3-11.

Оставить комментарий

Форма обратной связи о взаимодействии с сайтом
CAPTCHA
Этот вопрос задается для того, чтобы выяснить, являетесь ли Вы человеком или представляете из себя автоматическую спам-рассылку.